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연세대, 세계최초 차세대 반도체 노광기술 개발 2011-07-01
보도언론 | 연합뉴스, 뉴시스, 재경일보, 전자신문
보도일자 | 2009년 12월 29일

국내 연구진이 세계 최초로 차세대 나노반도체 노광장비 원천기술로 주목 받고 있는 '접촉식 플라즈모닉 노광기술(빛을 이용하여 기판에 나노 패턴을 구현하는 공정 기술)'을 개발했다.

연세대 기계공학과 한재원 교수는 29일 접촉식 기법을 활용해 기존 근접장 노광기술 보다 수백 배 빠른 기록 속도를 가진 노광기술 개발에 성공했다고 밝혔다. 이번 개발로 바이오칩과 나노 구조 물질 등을 연구하는 나노기술 연구실에서도 노광기술 상용화가 가능하게 됐다.

한 교수팀은 광 프로브와 기록 매체 간에 자기조립 단분자막 윤활층을 삽입함으로써 기록속도의 한계와 근접장 기록의 기술적인 문제를 극복하고, 초고속 노광기술을 실현했다.

이번 연구는 첨단 차세대 반도체 장비기술 자립화를 위해 시행 중인 지식경제부의 '나노반도체 장비 원천기술 상용화 산업'의 과제 지원으로 수행됐다.

이 기술이 개발됨에 따라 병렬 광 프로브를 이용하는 고속 플라즈모닉 노광장비를 개발할 수 있는 길이 열렸고 실제 반도체 산업에 응용 가능한 차세대 노광장비의 개발도 가능하게 됐다. 또한 간단한 구조의 단일 광 프로브 장치를 개발함으로써 바이오 칩, 나노 소자, 나노 구조 물질 등을 연구 개발하는 국내외 나노기술 응용 연구실에서도 본 기술의 활용이 가능할 것으로 보인다.

한 교수는 "반도체 소자 생산의 핵심 기술인 차세대 반도체 노광장비의 원천기술을 확보해 첨단 반도체 생산 장비산업의 국내 자립도를 획기적으로 향상시킬 수 있게 됐다"고 설명했다.

◇플라즈모닉 노광기술이란?

-금속과 전자기파의 상호작용에 의해 금속 표면에 발생하는 표면 플라즈몬을 이용한 노광 기술로써 사용하는 광원의 회절한계를 극복할 수 있는 기술이다. 뿐만 아니라 고투과 금속 나노 개구 혹은 플라즈모닉 렌즈 등의 형태로 구현돼 고투과 현상을 나타낸다. 이러한 표면 플라즈몬을 이용한 노광 기술은 기존 근접장 노광의 단점으로 지적되는 낮은 생산성을 극복할 수 있는 기술로 주목받고 있다.

hjkwon@newsis.com
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